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Eksma 激光檢測卡

簡要描述:Eksma 激光檢測卡
激光檢測卡提供即時(shí),無褪色的操作,可實(shí)現(xiàn)激光的簡單對準(zhǔn),定位和安全目的的可視化。卡由耐用的塑料制成,并覆蓋可見光和近紅外(NIR)光譜范圍。

  • 產(chǎn)品品牌:Eksma
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時(shí)間:2021-03-22
  • 訪  問  量:869

產(chǎn)品分類

Product Category

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詳細(xì)介紹

品牌Eksma價(jià)格區(qū)間面議
組件類別光學(xué)元件應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma 激光檢測卡

Eksma 激光檢測卡

激光檢測卡提供即時(shí),無褪色的操作,可實(shí)現(xiàn)激光的簡單對準(zhǔn),定位和安全目的的可視化??ㄓ赡陀玫乃芰现瞥?,并覆蓋可見光和近紅外(NIR)光譜范圍。

產(chǎn)品介紹

激光檢測卡提供即時(shí),無褪色的操作,可實(shí)現(xiàn)激光的簡單對準(zhǔn),定位和安全目的的可視化。它們由0.8mm的耐用塑料制成,并具有44 x 54mm的感光區(qū)域,該區(qū)域一直延伸到卡的三個(gè)邊緣,以便于在激光對準(zhǔn)過程中使用??ǖ耐暾叽鐬?6 x 54mm。

Ø涵蓋可見光和近紅外光譜范圍

Ø塑料,卡大?。?6 x 54mm)

Ø大傳感器區(qū)域(54 x 44mm)延伸到邊緣

VIS&IR檢測卡

990-0846激光檢測卡具有敏感的活動(dòng)區(qū)域,可用于可視化弱功率激光束,以檢測光束反射或散射的IR激光。 要正確使用此卡,需要在可見/日光下對其充電。另外,由于來自活動(dòng)區(qū)域的發(fā)射不是持久性的,因此用戶須四處移動(dòng)卡才能獲得優(yōu)良的束斑亮度。

Ø發(fā)射帶:580-750 nm

Ø發(fā)射峰:660 nm

Ø吸收帶:400-640 nm和800-1700 nm

NIR檢測卡

990-0847激光檢測卡不需要充電。即使在變暗的房間中用于連續(xù)波應(yīng)用中,該輻射仍會(huì)持續(xù)存在。另外,當(dāng)在具有足夠明亮光源的黑暗房間中使用有源區(qū)域時(shí),可以從背面看到從激活的感光區(qū)域發(fā)出的熒光,或者可以通過照亮卡的背面來激活感光區(qū)域。這對于對齊兩個(gè)光束的重疊特別有用。

Ø發(fā)射帶:520 – 580 nm

Ø發(fā)射峰:550 nm

Ø吸收帶:790 – 840 nm,870 – 1070 nm和1500 – 1590 nm

產(chǎn)品型號(hào)

CODE

ABSORPTION BAND

EMISSION PEAK

NOTES

990-0846

400-640 nm + 800-1700 nm

660 nm

requires charging with day light

990-0847

790-840 nm + 870-1070 nm + 1500-1590 nm

550 nm

does not require charging

 

 

990-0846
VIS & IR Detection Card

990-0847
NIR Detection Card

Absorption Bands

400 - 640 nm
800 - 1700 nm

790 – 840 nm
870 – 1070 nm
1500 – 1590 nm

Emission Bands

Broadband 600 – 730 nm
Peak @ 660 nm

520 – 580 nm
Peak @ 550 nm

Persistence (stimulation removed)

VIS: 0.5 – 3 s, dependent on ambient light
IR: <0.5 s

800 µs

Minimum Stimulation Continuous
1)

<1 nW/cm2
@ 450 nm
<25 µW/cm2
@ 950 nm

<2 µW/cm2
@ 808 nm
<175 nW/cm2
@ 960 nm
<100 µW/cm2
@ 1550 nm

Minimum Stimulation Pulsed
1)

2 kW/cm2
@ 1064 nm, 7 ns, 10 Hz

250 kW/cm2
@ 1064 nm, 7 ns, 10 Hz

Maximum Stimulation Continuous

100 W/cm2
@ 512 nm

100 W/cm2
@ 1064 nm

Maximum Stimulation Pulsed

60 MW/cm2
@ 1064 nm, 7 ns, 10 Hz

35 MW/cm2
@ 1064 nm, 7 ns, 10 Hz

Typical Applications

Ar-Ion, HeNe, HeCd, 880 nm, 960-980 nm laser diodes, Yb:KGW, Nd:YLF, Nd:Glass, Nd:YAG

808 nm, 820 nm, 830 nm, 880 nm, 960-9680 nm laser diodes, Yb:KGW, Nd:YLF, Nd:Glass, Nd:YAG, 1550 nm telecommunications

 EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識(shí)。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認(rèn)證。 必維檢驗(yàn)集團(tuán)(Bureau Veritas)頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

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