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Eksma 適用于納米應(yīng)用的高功率激光反射鏡

簡要描述:Eksma 適用于納米應(yīng)用的高功率激光反射鏡
新型高損傷閾值激光鏡專為飛秒激光器設(shè)計。這些鏡子使用的IBS鍍膜技術(shù)生產(chǎn)。反射鏡的設(shè)計波長包括基本Nd:YAG激光器1064 nm,其倍頻532 nm和800 nm,反射率R> 99.9%。

  • 產(chǎn)品品牌:Eksma
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時間:2021-03-22
  • 訪  問  量:963

產(chǎn)品分類

Product Category

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詳細(xì)介紹

品牌Eksma價格區(qū)間面議
組件類別光學(xué)元件應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma 適用于納米應(yīng)用的高功率激光反射鏡


Eksma 適用于納米應(yīng)用的高功率激光反射鏡

高損傷閾值激光反射鏡專為納秒級激光應(yīng)用而設(shè)計。使用的IBS鍍膜技術(shù)生產(chǎn)。

產(chǎn)品介紹

新型高損傷閾值激光鏡專為飛秒激光器設(shè)計。這些鏡子使用的IBS鍍膜技術(shù)生產(chǎn)。反射鏡的設(shè)計波長包括基本Nd:YAG激光器1064 nm,其倍頻532 nm和800 nm,反射率R> 99.9%。

在ISO標(biāo)準(zhǔn)21254-2 1000-on-1條件下,以10 ns脈沖,100 Hz的反射鏡設(shè)計波長測量激光誘導(dǎo)的損傷閾值。

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認(rèn)證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

 

產(chǎn)品型號

設(shè)計波長 - 355 nm, LIDT @ 10 ns pulse, 100 Hz

型號

波長

材料

尺寸

AOI

R, % (S+P)/2

激光損傷閾值

041-0260HHR

266 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

45°

99.5%

>1 J/cm²

041-0260HHR-i0

266 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

99.5%

>1 J/cm²

042-0260HHR

266 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

45°

99.5%

>1 J/cm²

042-0260HHR-i0

266 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

99.5%

>1 J/cm²

045-0260HHR

266 nm

UV FS

ø50.8 x 12 mm

45°

99.5%

>1 J/cm²

045-0260HHR-i0

266 nm

UV FS

ø50.8 x 12 mm

99.5%

>1 J/cm²

設(shè)計波長 - 355 nm, LIDT @ 10 ns pulse, 100 Hz

型號

波長

材料

SIZE尺寸

AOI

R, % (S+P)/2

激光損傷閾值

041-0350UHHR

355 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

45°

99.8%

>10 J/cm²

041-0350UHHR-i0

355 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

99.8%

>10 J/cm²

042-0350UHHR

355 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

45°

99.8%

>10 J/cm²

042-0350UHHR-i0

355 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

99.8%

>10 J/cm²

045-0350UHHR

355 nm

UV FS

ø50.8 x 12 mm

45°

99.8%

>10 J/cm²

045-0350UHHR-i0

355 nm

UV FS

ø50.8 x 12 mm

99.8%

>10 J/cm²

設(shè)計波長 - 532 nm, LIDT @ 10 ns pulse, 100 Hz

型號

波長

材料

尺寸

AOI

R, % (S+P)/2

激光損傷閾值

041-0530T6HHR

532 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

45°

99.9%

>10 J/cm²

041-0530T6UHHR

532 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

45°

99.9%

>20 J/cm²

041-0530T6HHR-i0

532 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

99.9%

>10 J/cm²

041-0530T6UHHR-i0

532 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

99.9%

>20 J/cm²

041-0530T6HHR-i0-45

532 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

0-45°

99.9%

>10 J/cm²

042-0530HHR

532 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

45°

99.9%

>10 J/cm²

042-0530UHHR

532 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

45°

99.9%

>20 J/cm²

042-0530HHR-i0

532 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

99.9%

>10 J/cm²

042-0530UHHR-i0

532 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

99.9%

>20 J/cm²

042-0530HHR-i0-45

532 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

0-45°

99.9%

>10 J/cm²

045-0530T12HHR

532 nm

UV FS

ø50.8 x 12 mm

45°

99.9%

>10 J/cm²

045-0530T12UHHR

532 nm

UV FS

ø50.8 x 12 mm

45°

99.9%

>20 J/cm²

045-0530T12HHR-i0

532 nm

UV FS

ø50.8 x 12 mm

99.9%

>10 J/cm²

045-0530T12UHHR-i0

532 nm

UV FS

ø50.8 x 12 mm

99.9%

>20 J/cm²

045-0530T12HHR-i0-45

532 nm

UV FS

ø50.8 x 12 mm

0-45°

99.9%

>10 J/cm²

設(shè)計波長 - 800 nm, LIDT @ 10 ns pulse, 100 Hz

型號

波長

材料

SIZE尺寸

AOI

R, % (S+P)/2

激光損傷閾值

041-0800NT6UHHR

800 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

45°

99.9%

>30 J/cm²

041-0800NT6UHHR-i0

800 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

99.9%

>30 J/cm²

042-0800NUHHR

800 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

45°

99.9%

>30 J/cm²

042-0800NUHHR-i0

800 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

99.9%

>30 J/cm²

045-0800NT12UHHR

800 nm

UV FS

ø50.8 x 12 mm

45°

99.9%

>30 J/cm²

045-0800NT12UHHR-i0

800 nm

UV FS

ø50.8 x 12 mm

99.9%

>30 J/cm²

設(shè)計波長 - 1064 nm, LIDT @ 10 ns pulse, 100 Hz

型號

波長

材料

尺寸

AOI

R, % (S+P)/2

激光損傷閾值

041-1060T6HHR

1064 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

45°

99.9%

>20 J/cm²

041-1060NT6UHHR

1064 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

45°

99.9%

>40 J/cm²

041-1060T6HHR-i0

1064 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

99.9%

>20 J/cm²

041-1060NT6UHHR-i0

1064 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

45°

99.9%

>40 J/cm²

041-1060T6HHR-i0-45

1064 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

0-45°

99.9%

>20 J/cm²

042-1060HHR

1064 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

45°

99.9%

>20 J/cm²

042-1060NUHHR

1064 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

45°

99.9%

>40 J/cm²

042-1060HHR-i0

1064 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

99.9%

>20 J/cm²

042-1060NUHHR-i0

1064 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

99.9%

>40 J/cm²

042-1060HHR-i0-45

1064 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

0-45°

99.9%

>20 J/cm²

045-1060T12HHR

1064 nm

UV FS

ø50.8 x 12 mm

45°

99.9%

>20 J/cm²

045-1060NT12UHHR

1064 nm

UV FS

ø50.8 x 12 mm

45°

99.9%

>40 J/cm²

045-1060T12HHR-i0

1064 nm

UV FS

ø50.8 x 12 mm

99.9%

>20 J/cm²

045-1060NT12UHHR-i0

1064 nm

UV FS

ø50.8 x 12 mm

99.9%

>40 J/cm²

045-1060NT12HHR-i0-45

1064 nm

UV FS

ø50.8 x 12 mm

0-45°

99.9%

>20 J/cm²

設(shè)計波長 - 532+1064 nm, LIDT @ 10 ns pulse, 100 Hz

型號

波長

材料

尺寸

AOI

R, % (S+P)/2

激光損傷閾值

062-5306UHHR

532+1064 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

45°

99.5%

>10 J/cm²

基材

材料

UV級熔融石英

S1表面平整度

λ/10 at 633 nm

S1表面質(zhì)量

20-10 表面光潔度 (MIL-PRF-13830B)

S2表面質(zhì)量

簡單拋光

直徑公差

+0.00 mm / -0.12 mm

厚度公差

±0.25 mm

< 3 min

倒角

0.3 mm at 45° typical

 

鍍膜

技術(shù)

離子束濺射(IBS)

附著力和耐久性

根據(jù)MIL-C-675A,不溶于實驗室溶劑

通光孔徑

超過直徑的85%

鍍膜表面平整度

透明孔徑下633 nm處的λ/ 10

激光引起的損傷閾值

在設(shè)計波長,10 ns脈沖,100 Hz下測量

 

新型高損傷閾值激光鏡專為飛秒激光器設(shè)計。這些鏡子使用的IBS鍍膜技術(shù)生產(chǎn)。反射鏡的設(shè)計波長包括基本Nd:YAG激光器1064 nm,其倍頻532 nm和800 nm,反射率R> 99.9%。

在ISO標(biāo)準(zhǔn)21254-2 1000-on-1條件下,以10 ns脈沖,100 Hz的反射鏡設(shè)計波長測量激光誘導(dǎo)的損傷閾值。

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認(rèn)證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認(rèn)證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

新型高損傷閾值激光鏡專為飛秒激光器設(shè)計。這些鏡子使用的IBS鍍膜技術(shù)生產(chǎn)。反射鏡的設(shè)計波長包括基本Nd:YAG激光器1064 nm,其倍頻532 nm和800 nm,反射率R> 99.9%。

在ISO標(biāo)準(zhǔn)21254-2 1000-on-1條件下,以10 ns脈沖,100 Hz的反射鏡設(shè)計波長測量激光誘導(dǎo)的損傷閾值。

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